8月6日音讯，在近来的财报电话会议上，Intel CEO宣告已成功接纳全球第二台价值3.83亿美元的High NA EUV（极紫外光刻机）。
High NA EUV光刻机是现在世界上最先进的芯片制作设备之一，其分辨率到达8纳米，可以明显提高芯片的晶体管密度和功能，是完成2nm以下先进制程大规模量产的必备兵器。
帕特·基辛格表明，第二台High NA设备行将进入Intel坐落美国俄勒冈州的晶圆厂，估计将支撑公司新一代更强壮的计算机芯片的出产。
此前，Intel已于上一年12月接纳了全球首台High NA EUV光刻机，并在俄勒冈州晶圆厂完成了拼装。
此次第二台设备的引进，将进一步提高Intel在高端芯片制作范畴的竞争力，有望协助公司在2025年完成对台积电等竞争对手的逾越。
High NA EUV光刻机的引进，是Intel”IDM 2.0″战略的一部分，该战略旨在经过技能创新和工艺提高，重塑Intel在全球半导体工业的领导地位。
Intel计划在2027年前将High NA EUV技能用于商业出产，并在2030年前完成代工事务的收支平衡。
